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Sinto 硅/玻璃硬脆材料干式蝕刻 微噴砂加工

  • 產(chǎn)品型號:Micro Blast / 0.02μmRa
  • 更新時間:2026-07-11

簡要描述:Sinto 硅/玻璃硬脆材料干式蝕刻 微噴砂加工 Micro Blast / 0.02μmRa,這項技術(shù)主要用于玻璃、硅、陶瓷等硬脆材料的高精度微細(xì)加工,如鉆孔、開槽和切割。它適用于電子、半導(dǎo)體、傳感器及精密制造等行業(yè)。

產(chǎn)品詳情
品牌其他品牌產(chǎn)地類別進(jìn)口
應(yīng)用領(lǐng)域環(huán)保,化工,能源,電子/電池,綜合


日本新東工業(yè)(Sinto)關(guān)于其“微細(xì)加工技術(shù)"(Micro Blast)簡單來說,這是一種利用壓縮空氣將極細(xì)的磨料顆粒(10μm~70μm)高速噴射到工件表面,從而實現(xiàn)高精度微細(xì)加工的“干式蝕刻"技術(shù)。這項技術(shù)特別適合加工玻璃、硅、陶瓷等硬脆材料,因為它屬于冷加工,能極大減少微裂紋和材料變質(zhì)。

Sinto 硅/玻璃硬脆材料干式蝕刻 微噴砂加工


技術(shù)核心與優(yōu)勢

  • 工作原理:利用壓縮空氣,將10μm~70μm的微細(xì)磨料高速噴射到工件上,通過脆性破壞原理進(jìn)行加工。

  • 核心特點:屬于冷加工、干式工藝,因此產(chǎn)生的微裂紋和加工變質(zhì)極少,精度高、品質(zhì)好。

  • 主要優(yōu)勢:

    1. 干式無化學(xué)污染:不使用化學(xué)藥液,環(huán)保。

    2. 損傷小:幾乎不產(chǎn)生崩邊(Chipping)和裂紋(Crack)。

    3. 效率高:加工速率快,生產(chǎn)性高。

    4. 成本低:相比激光、蝕刻等方法,初期投入成本更低。

    5. 適用廣:可加工復(fù)雜形狀,對多種材料都有效。


與其他加工方式的對比

項目微細(xì)噴砂 (Micro Blast)化學(xué)蝕刻 (Etching)激光加工 (Laser)超聲波加工
加工精度
環(huán)境友好性×
崩邊/裂紋
加工變質(zhì)
生產(chǎn)效率
復(fù)雜形狀加工
初期成本

Sinto 硅/玻璃硬脆材料干式蝕刻 微噴砂加工


主要加工技術(shù)與應(yīng)用

該技術(shù)可實現(xiàn)多種加工,精度可達(dá)微米級:
  • 鉆孔技術(shù):在玻璃、硅、陶瓷等硬脆材料上加工通孔或盲孔。

    • 精度:線寬可達(dá)50μm以上,深度誤差在±5%左右。

    • 應(yīng)用:傳感器基板、中介層基板的孔加工。

  • 開槽技術(shù):在材料上挖掘溝槽或流體通道。

    • 精度:線寬可達(dá)50μm以上。

    • 應(yīng)用:嵌入式電極的溝槽、玻璃基板的流路、芯片實驗室(Lab-on-a-chip)的流路形成。

  • 切割技術(shù):將玻璃薄板等材料進(jìn)行精細(xì)切割。

  • 去除技術(shù):

    • 全面去除:100%去除表面的涂膜、鍍層、氧化物等。

    • 部分去除:按特定圖案去除表面附著物,精度可達(dá)50μm。

    • 分層去除:選擇性地去除頂層金屬層,用于絕緣處理等,最大去除深度可達(dá)20μm。



      Sinto 硅/玻璃硬脆材料干式蝕刻 微噴砂加工



Sinto 硅/玻璃硬脆材料干式蝕刻 微噴砂加工 Micro Blast / 0.02μmRa,這項技術(shù)主要用于玻璃、硅、陶瓷等硬脆材料的高精度微細(xì)加工,如鉆孔、開槽和切割。它適用于電子、半導(dǎo)體、傳感器及精密制造等行業(yè)。

Sinto 硅/玻璃硬脆材料干式蝕刻 微噴砂加工 Micro Blast / 0.02μmRa,這項技術(shù)主要用于玻璃、硅、陶瓷等硬脆材料的高精度微細(xì)加工,如鉆孔、開槽和切割。它適用于電子、半導(dǎo)體、傳感器及精密制造等行業(yè)。

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