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SEL 晶圓裂紋檢測儀

  • 產(chǎn)品型號:SEL-WCIS
  • 更新時間:2026-07-10

簡要描述:SEL 晶圓裂紋檢測儀 SEL-WCIS,昭和電氣研究所的晶圓檢測設(shè)備專題頁,主要用途是展示其利用光學(xué)與傳感器技術(shù)融合的四大核心檢測產(chǎn)品。適用行業(yè)為半導(dǎo)體制造,專門用于硅(Si)、碳化硅(SiC)等晶圓在生產(chǎn)過程中的裂紋、邊緣缺陷、表面劃痕及形狀精度的自動化檢測與質(zhì)量控制

產(chǎn)品詳情
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日本昭和電氣研究所 (Showa Electric Laboratory) 旗下產(chǎn)品——晶圓(Wafer)檢測設(shè)備的專題介紹頁面。

SEL 晶圓裂紋檢測儀

公司簡介與核心理念

  • 公司名稱:昭和電氣研究所 (SEL)

  • 核心優(yōu)勢:擁有豐富的實驗設(shè)備和經(jīng)驗,致力于通過光學(xué)技術(shù)傳感器技術(shù)的融合,將“不可見"的缺陷“可視化"。

  • 服務(wù)模式:除了標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備,還提供根據(jù)客戶需求定制的OEM/ODM受托設(shè)計生產(chǎn)業(yè)務(wù)。

  • 認(rèn)證資質(zhì):公司已獲得 ISO9001:2015(質(zhì)量管理體系)和 ISO14001:2015(環(huán)境管理體系)認(rèn)證。


四大核心檢測產(chǎn)品線

該研究所針對半導(dǎo)體晶圓生產(chǎn)中的不同需求,開發(fā)了四類主要的檢測系統(tǒng),具體如下表所示:
產(chǎn)品類別核心檢測功能技術(shù)亮點(diǎn)與應(yīng)用范圍
晶圓裂紋檢測 

SEL-WCIS系列

(Wafer Crack 

Inspection)

檢測晶圓正反面的裂紋、凹痕(Dimple)、隆起等。2020年專有技術(shù)。可將裂紋引起的微小形變可視化,適用于Si、SiC、LN、LT等多種晶圓材料。

晶圓邊緣/缺口檢測

SEL-WEIS系列

(Edge & Notch Inspection)
檢查晶圓邊緣(Bevel)、APEX(邊緣頂點(diǎn))及缺口(Notch)的表面缺陷。2019年專有技術(shù)。利用多臺相機(jī)(3-6臺)組合,可檢測微細(xì)缺陷及異物。
晶圓正反面檢測
(Front/Back Inspection)
檢測正反面的劃痕、滑移線(Slip)、顆粒(Particle)。專有申請中。無論鏡面還是梨地(粗面)背景,均可精準(zhǔn)檢出劃痕;也可檢測滑移線。

晶圓邊緣形狀測量

SEL-REIS系列

(Edge Profile Measurement)
測量邊緣倒角(Bevel angle)、滾邊(Roll-off)及貼合精度。可對貼合晶圓(Bonded Wafer)的貼合精度進(jìn)行測量,確保加工質(zhì)量。


技術(shù)特點(diǎn)總結(jié)

  1. 高精度與高速性:打破常識的低價位,同時實現(xiàn)高速和高檢測能力。

  2. 多缺陷同時檢測:一臺設(shè)備可同時檢測多種缺陷,提高生產(chǎn)效率。

  3. 廣泛的適用性:已在多家器件制造商(Device Makers)處投入使用,涵蓋硅(Si)、碳化硅(SiC)等多種晶圓品種。

  4. 定制化服務(wù):針對客戶特定需求,提供定制化的檢測方案和產(chǎn)線集成。



SEL 晶圓裂紋檢測儀  SEL-WCIS,昭和電氣研究所的晶圓檢測設(shè)備專題頁,主要用途是展示其利用光學(xué)與傳感器技術(shù)融合的四大核心檢測產(chǎn)品。適用行業(yè)為半導(dǎo)體制造,專門用于硅(Si)、碳化硅(SiC)等晶圓在生產(chǎn)過程中的裂紋、邊緣缺陷、表面劃痕及形狀精度的自動化檢測與質(zhì)量控制。

SEL 晶圓裂紋檢測儀  SEL-WCIS,昭和電氣研究所的晶圓檢測設(shè)備專題頁,主要用途是展示其利用光學(xué)與傳感器技術(shù)融合的四大核心檢測產(chǎn)品。適用行業(yè)為半導(dǎo)體制造,專門用于硅(Si)、碳化硅(SiC)等晶圓在生產(chǎn)過程中的裂紋、邊緣缺陷、表面劃痕及形狀精度的自動化檢測與質(zhì)量控制。

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