歡迎光臨深圳九州工業(yè)品有限公司！
咨詢電話
13691609757
13691609757
products
產(chǎn)品分類產(chǎn)品中心/ products
產(chǎn)品型號(hào)：
更新時(shí)間：2026-06-01簡(jiǎn)要描述：日本Smics ARCscan半導(dǎo)體圖案均勻性檢測(cè)儀，RCscan是一種能夠?qū)ξ⒂^觀察難以覆蓋的廣闊區(qū)域進(jìn)行圖案形狀均勻性分析與評(píng)估的設(shè)備。實(shí)現(xiàn)了針對(duì)觀測(cè)對(duì)象優(yōu)化的光學(xué)條件，使以往難以實(shí)現(xiàn)的高靈敏度、高速度、大面積檢測(cè)成為可能。
| 品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,綜合 |
核心優(yōu)勢(shì)：能夠捕捉微弱的邊緣反射光變化，可視化圖案的不均勻性（采用排除衍射光的邊緣反射光檢測(cè)技術(shù)）。
主要應(yīng)用：
納米壓印：轉(zhuǎn)印性分析評(píng)價(jià)、模具劣化解析、脫模劑涂布狀態(tài)觀察。
半導(dǎo)體與面板：晶圓/光刻膠圖案的不均勻性檢查、離焦評(píng)價(jià)。
精密光學(xué)：光子晶體圖案評(píng)價(jià)、PSS（圖形化藍(lán)寶石襯底）檢查。
典型案例：成功實(shí)現(xiàn)了對(duì) 106~159nm 孔徑光刻膠圖案的宏觀成像，并建立了孔徑尺寸與相對(duì)反射光強(qiáng)度之間的強(qiáng)相關(guān)性（R2=0.93）。
| 項(xiàng)目 | 規(guī)格參數(shù) |
|---|---|
| 樣本尺寸 | 最大 300mm × 300mm，厚度 17mm 以下 |
| 光學(xué)系統(tǒng) | 線掃描方式，專用LED照明 |
| 驅(qū)動(dòng)系統(tǒng) | 相機(jī)Θ軸；平臺(tái)X、Y、Θ軸；手動(dòng)Z軸 |
| 成像傳感器 | 專用CCD線傳感器（256灰階，8bit輸出） |
| 顯示單元 | 21英寸以上彩色顯示器（分辨率1920×1200） |
操作模式：
操作員模式：用于重復(fù)拍攝。
手動(dòng)拍攝模式：可調(diào)節(jié)角度、照明、曝光等參數(shù)。
自動(dòng)條件設(shè)定模式（選配）：自動(dòng)提取最佳成像角度。
MIT Tool圖像處理軟件：
支持區(qū)域/線條指定、CSV文件化、輪廓顯示、圖像裁剪縮放。
具備索引顏色化、直方圖創(chuàng)建、濾波校正等功能。
擴(kuò)展功能（選配）：支持圖像合成、3D顯示及頻率分析。
硬件選配：HEPA過(guò)濾器（不保證潔凈度）、裝載機(jī)（Loader）對(duì)應(yīng)。
軟件選配：缺陷檢測(cè)軟件。
數(shù)據(jù)存儲(chǔ)：拍攝圖像以BMP格式保存，并包含拍攝條件信息。
日本Smics ARCscan半導(dǎo)體圖案均勻性檢測(cè)儀，RCscan是一種能夠?qū)ξ⒂^觀察難以覆蓋的廣闊區(qū)域進(jìn)行圖案形狀均勻性分析與評(píng)估的設(shè)備。實(shí)現(xiàn)了針對(duì)觀測(cè)對(duì)象優(yōu)化的光學(xué)條件，使以往難以實(shí)現(xiàn)的高靈敏度、高速度、大面積檢測(cè)成為可能。
日本Smics ARCscan半導(dǎo)體圖案均勻性檢測(cè)儀，RCscan是一種能夠?qū)ξ⒂^觀察難以覆蓋的廣闊區(qū)域進(jìn)行圖案形狀均勻性分析與評(píng)估的設(shè)備。實(shí)現(xiàn)了針對(duì)觀測(cè)對(duì)象優(yōu)化的光學(xué)條件，使以往難以實(shí)現(xiàn)的高靈敏度、高速度、大面積檢測(cè)成為可能。
您的位置：
在線咨詢
返回頂部