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日本Smics ARCscan半導(dǎo)體圖案均勻性檢測儀

  • 產(chǎn)品型號:
  • 更新時間:2026-06-01

簡要描述:日本Smics ARCscan半導(dǎo)體圖案均勻性檢測儀,RCscan是一種能夠?qū)ξ⒂^觀察難以覆蓋的廣闊區(qū)域進行圖案形狀均勻性分析與評估的設(shè)備。實現(xiàn)了針對觀測對象優(yōu)化的光學(xué)條件,使以往難以實現(xiàn)的高靈敏度、高速度、大面積檢測成為可能。

產(chǎn)品詳情
品牌其他品牌產(chǎn)地類別進口
應(yīng)用領(lǐng)域化工,綜合
日本斯米克斯株式會社(Smics Co., Ltd.),主要介紹了其裝置部門的核心產(chǎn)品 ARCscan。該設(shè)備專注于解決微米及納米級廣域圖案的均一性分析與評價難題。

日本Smics ARCscan半導(dǎo)體圖案均勻性檢測儀


??? 一、核心功能與應(yīng)用領(lǐng)域


ARCscan 是一款利用優(yōu)化的光學(xué)條件,實現(xiàn)高靈敏度、高速、大面積檢測的裝置。其主要功能包括:
  • 核心優(yōu)勢:能夠捕捉微弱的邊緣反射光變化,可視化圖案的不均勻性(采用排除衍射光的邊緣反射光檢測技術(shù))。

  • 主要應(yīng)用

    • 納米壓印:轉(zhuǎn)印性分析評價、模具劣化解析、脫模劑涂布狀態(tài)觀察。

    • 半導(dǎo)體與面板:晶圓/光刻膠圖案的不均勻性檢查、離焦評價。

    • 精密光學(xué):光子晶體圖案評價、PSS(圖形化藍寶石襯底)檢查。

  • 典型案例:成功實現(xiàn)了對 106~159nm 孔徑光刻膠圖案的宏觀成像,并建立了孔徑尺寸與相對反射光強度之間的強相關(guān)性(R2=0.93)。


?? 二、主要技術(shù)規(guī)格


該設(shè)備在硬件配置上兼顧了大尺寸樣本處理與高精度成像需求:
項目規(guī)格參數(shù)
樣本尺寸最大 300mm × 300mm,厚度 17mm 以下
光學(xué)系統(tǒng)線掃描方式,專用LED照明
驅(qū)動系統(tǒng)相機Θ軸;平臺X、Y、Θ軸;手動Z軸
成像傳感器專用CCD線傳感器(256灰階,8bit輸出)
顯示單元21英寸以上彩色顯示器(分辨率1920×1200)


??? 三、軟件功能與配置


系統(tǒng)通過多模式軟件控制實現(xiàn)自動化與精細化分析:
  1. 操作模式

    • 操作員模式:用于重復(fù)拍攝。

    • 手動拍攝模式:可調(diào)節(jié)角度、照明、曝光等參數(shù)。

    • 自動條件設(shè)定模式(選配):自動提取最佳成像角度。

  2. MIT Tool圖像處理軟件

    • 支持區(qū)域/線條指定、CSV文件化、輪廓顯示、圖像裁剪縮放。

    • 具備索引顏色化、直方圖創(chuàng)建、濾波校正等功能。

  3. 擴展功能(選配):支持圖像合成、3D顯示及頻率分析。


?? 四、可選配件與附加信息


  • 硬件選配:HEPA過濾器(不保證潔凈度)、裝載機(Loader)對應(yīng)。

  • 軟件選配:缺陷檢測軟件。

  • 數(shù)據(jù)存儲:拍攝圖像以BMP格式保存,并包含拍攝條件信息。


日本Smics ARCscan半導(dǎo)體圖案均勻性檢測儀,RCscan是一種能夠?qū)ξ⒂^觀察難以覆蓋的廣闊區(qū)域進行圖案形狀均勻性分析與評估的設(shè)備。實現(xiàn)了針對觀測對象優(yōu)化的光學(xué)條件,使以往難以實現(xiàn)的高靈敏度、高速度、大面積檢測成為可能。

日本Smics ARCscan半導(dǎo)體圖案均勻性檢測儀,RCscan是一種能夠?qū)ξ⒂^觀察難以覆蓋的廣闊區(qū)域進行圖案形狀均勻性分析與評估的設(shè)備。實現(xiàn)了針對觀測對象優(yōu)化的光學(xué)條件,使以往難以實現(xiàn)的高靈敏度、高速度、大面積檢測成為可能。


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