Suiho特氟龍脫氣膜技術(shù)解析：非多孔PTFE結(jié)構(gòu)與微氣泡去除機制

更新時間：2026-01-07

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隨著半導體器件制造向微細化發(fā)展，以及300mm晶圓和大型LCD基板的普及，生產(chǎn)技術(shù)對精度的要求達到了前的所的未的有的高度。在這一進程中，藥液中肉眼難以察覺的**微氣泡（Microbubbles）**已成為制約良率的關(guān)鍵隱患。

微氣泡會導致顯影液分布不均、光刻膠殘留（Resist remaining）以及蝕刻工藝偏差等各類器件缺陷。因此，開發(fā)一種能夠高效、徹的底去除藥液中溶解氣體的脫氣技術(shù)，已成為半導體與液晶制造領(lǐng)域的迫切需求。

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水晶科技（Suiho Techno）的脫氣膜之所以能在高精尖制造領(lǐng)域獲得廣泛信賴，核心在于其獨特的膜材料選擇與物理結(jié)構(gòu)設(shè)計。

材質(zhì)優(yōu)勢：四氟乙烯樹脂（PTFE）產(chǎn)品采用聚四氟乙烯（Polytetrafluoroethylene，簡稱PTFE，即特氟龍）作為核心材料。這種材料具有極的高的化學惰性，賦予了膜組件卓的越的耐藥性、耐溶劑性及耐熱性。這使得該脫氣膜能夠直接應用于顯影液、光刻膠、蝕刻液、電鍍液及超純水等嚴苛化學環(huán)境中，而不會發(fā)生腐蝕或性能衰減。
結(jié)構(gòu)革新：非多孔（Non-porous）設(shè)計與傳統(tǒng)的多孔膜不同，Suiho脫氣膜采用了非多孔中空絲膜結(jié)構(gòu)。這一設(shè)計具有雙重優(yōu)勢：

Suiho脫氣膜的運作并非簡單的物理過濾，而是一個基于氣體擴散定律的物理化學過程。

真空壓差驅(qū)動脫氣機制的核心在于利用分壓差。設(shè)備將PTFE中空纖維膜的外側(cè)保持真空狀態(tài)，而藥液則在膜的內(nèi)側(cè)流動。
氣體選擇性透過由于膜內(nèi)側(cè)藥液中溶解氣體的分壓高于真空側(cè)，氣體分子會通過四氟乙烯樹脂的管壁，從高壓側(cè)（藥液）向低壓側(cè)（真空）擴散。這一過程實現(xiàn)了對溶解在藥液中氣體的高效去除，且不會對藥液本身造成污染或損耗。

針對現(xiàn)代晶圓廠（Fab）對空間利用率的極的高要求，Suiho在設(shè)計上實現(xiàn)了突破。

高密度集成： 通過增加非多孔中空絲膜的束數(shù)，大幅增加了單位體積內(nèi)的膜面積。
緊湊設(shè)計： 在保證大流量處理能力（適配300mm晶圓產(chǎn)線需求）的同時，實現(xiàn)了設(shè)備的省空間化與配管簡素化。

目前，該技術(shù)已廣泛應用于：

水晶科技的特氟龍脫氣膜，通過非多孔PTFE材料與真空分壓脫氣機制的完的美結(jié)合，成功解決了微氣泡導致的工藝缺陷難題。它不僅提供了高純度的藥液處理方案，更以其緊湊的設(shè)計和卓的越的耐腐蝕性，成為了半導體與液晶制造中不的可的或的缺的關(guān)鍵組件。

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