Alnair Labs Si/硅晶圓厚度測(cè)量?jī)x 實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)

產(chǎn)品型號(hào)：SIT-200 / SIT-2008
更新時(shí)間：2026-07-08

簡(jiǎn)要描述：Alnair Labs Si/硅晶圓厚度測(cè)量?jī)x 實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè) SIT-200 / SIT-2008 為非接觸式硅晶圓激光厚度傳感器，可在濕法刻蝕中原位實(shí)時(shí)測(cè)厚，能測(cè)量形貌粗糙的晶圓，完成晶圓厚度監(jiān)測(cè)、刻蝕進(jìn)程管控。主要用于芯片代工、MEMS 器件、半導(dǎo)體材料制造行業(yè)，適配晶圓濕法刻蝕、薄片來(lái)料質(zhì)檢、晶圓減薄等半導(dǎo)體制程厚度檢測(cè)。

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產(chǎn)品詳情

品牌	其他品牌	產(chǎn)地類(lèi)別	進(jìn)口
應(yīng)用領(lǐng)域	環(huán)保,化工,能源,電子/電池,綜合

硅晶圓厚度傳感器 SIT-200 是一款由 Alnair Labs 公司開(kāi)發(fā)的，核心優(yōu)勢(shì)在于能在苛刻的工業(yè)環(huán)境下，對(duì)表面不平整的晶圓進(jìn)行快速、非接觸式的精確測(cè)量。

Alnair Labs Si/硅晶圓厚度測(cè)量?jī)x 實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)

全光學(xué)、非接觸式硅晶圓厚度傳感器
高動(dòng)態(tài)范圍，可測(cè)量不規(guī)則表面
可在濕法蝕刻過(guò)程中進(jìn)行原位測(cè)量

高靈敏度	高精度	20ms 高速測(cè)量	遠(yuǎn)程

系統(tǒng)構(gòu)成

硅晶圓厚度傳感器由精確調(diào)諧的波長(zhǎng)掃描激光光源、聚焦傳感器和光接收器（PD）構(gòu)成。波長(zhǎng)掃描光聚焦在目標(biāo)上，由目標(biāo)表面反射形成的干涉圖案，在通過(guò)傳感器后被光電二極管（PD）檢測(cè)。

規(guī)格

項(xiàng)目	規(guī)格
測(cè)量目標(biāo)	硅晶圓
光源	波長(zhǎng)掃描激光源 (1515 ~ 1585 nm)
測(cè)量厚度范圍	10 ~ 500 µm (n=3.5)
光輸出功率	0.6 mW，激光等級(jí) 1
導(dǎo)引光源	紅色激光二極管，激光等級(jí) 1M
測(cè)量時(shí)間	最短 20 ms
重復(fù)性	小于 0.1 µm (3σ)
監(jiān)控輸出	干涉信號(hào) (電信號(hào))
PC 接口	以太網(wǎng)
電源	AC 100-240 V (50 / 60 Hz)
外形尺寸 (寬 x 高 x 深)	364 x 147 x 391 mm
重量	9.0 kg

以上規(guī)格如有變更，恕不另行通知。

應(yīng)用：晶圓厚度監(jiān)測(cè)、濕法蝕刻過(guò)程中的實(shí)時(shí)測(cè)量、光學(xué)傳感器、晶圓。

Alnair Labs Si/硅晶圓厚度測(cè)量?jī)x 實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè) SIT-200 / SIT-2008 為非接觸式硅晶圓激光厚度傳感器，可在濕法刻蝕中原位實(shí)時(shí)測(cè)厚，能測(cè)量形貌粗糙的晶圓，完成晶圓厚度監(jiān)測(cè)、刻蝕進(jìn)程管控。主要用于芯片代工、MEMS 器件、半導(dǎo)體材料制造行業(yè)，適配晶圓濕法刻蝕、薄片來(lái)料質(zhì)檢、晶圓減薄等半導(dǎo)體制程厚度檢測(cè)。

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