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您的位置：首頁  -  產(chǎn)品中心  -  儀器  -  其它探頭/傳感器  -  PPS-8200p1/8300p1日本orc半導(dǎo)體光刻機(jī)

日本orc半導(dǎo)體光刻機(jī)

  • 產(chǎn)品型號：PPS-8200p1/8300p1
  • 更新時(shí)間：2024-08-24

簡要描述：日本orc半導(dǎo)體光刻機(jī) PPS-8200p1/8300p1
用途：支持各種應(yīng)用
特長
-寬頻譜光刻　(與菜單連動的 ghi線 gh線, i線的自動切換)
-搭載可變NA功能 (可變?yōu)?.16和0.1)
-最多8Field的拼接設(shè)計(jì)格式
-光學(xué)系統(tǒng)不受感光材揮發(fā)氣體和周圍環(huán)境中化學(xué)物質(zhì)影響

產(chǎn)品詳情
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日本orc半導(dǎo)體光刻機(jī) PPS-8200p1/8300p1

用途：支持各種應(yīng)用

特長

-寬頻譜光刻　(與菜單連動的 ghi線 gh線, i線的自動切換)

-搭載可變NA功能 (可變?yōu)?.16和0.1)

-最多8Field的拼接設(shè)計(jì)格式

-光學(xué)系統(tǒng)不受感光材揮發(fā)氣體和周圍環(huán)境中化學(xué)物質(zhì)影響

制品規(guī)格


型式
PPS-8200p1/8300p1
wafer尺寸  6/8/12 英寸
NA（開口數(shù)）0.16、0.1可變
縮小比1:1
Field尺寸52mm × 33mm
光刻波長ghi-Line gh-line i-line(與菜單連動)
視野尺寸6inch
重復(fù)對位精度≦0.5 µm(|Ave|+3σ)
裝置尺寸／重量

（W）2,260×（D）3,460×（H）2,500mm / 5,500kg



日本orc半導(dǎo)體光刻機(jī) PPS-8200p1/8300p1

用途：支持各種應(yīng)用

特長

-寬頻譜光刻　(與菜單連動的 ghi線 gh線, i線的自動切換)

-搭載可變NA功能 (可變?yōu)?.16和0.1)

-最多8Field的拼接設(shè)計(jì)格式

-光學(xué)系統(tǒng)不受感光材揮發(fā)氣體和周圍環(huán)境中化學(xué)物質(zhì)影響

制品規(guī)格

型式
PPS-8200p1/8300p1
wafer尺寸  6/8/12 英寸
NA（開口數(shù)）0.16、0.1可變
縮小比1:1
Field尺寸52mm × 33mm
光刻波長ghi-Line gh-line i-line(與菜單連動)
視野尺寸6inch
重復(fù)對位精度≦0.5 µm(|Ave|+3σ)
裝置尺寸／重量

（W）2,260×（D）3,460×（H）2,500mm / 5,500kg


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