日本YAMADA KOGAKU（山田光學(xué)）高亮度的定向光源怎么檢測(cè)半導(dǎo)體晶圓？

更新時(shí)間：2026-06-17

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這款設(shè)備通過(guò)提供超高亮度的定向光源，來(lái)輔助人工或機(jī)器視覺(jué)系統(tǒng)檢測(cè)半導(dǎo)體晶圓表面的微觀缺陷。它由YAMADA KOGAKU 公司生產(chǎn)的設(shè)備（如YP-150I、YP-250I及YP-250IL型號(hào)）的具體檢測(cè)原理和應(yīng)用方式如下：

日本YAMADA KOGAKU（山田光學(xué)）高亮度的定向光源怎么檢測(cè)半導(dǎo)體晶圓？

核心檢測(cè)原理

這款設(shè)備本質(zhì)上是一個(gè)高亮度鹵素/LED光源裝置，它并不直接“分析"缺陷，而是通過(guò)提供極的致的照明條件，讓缺陷“無(wú)所遁形"。

超高照度（High Illuminance）：

設(shè)備的照度（Illuminance）達(dá)到 400,000 Lx以上。
這一亮度是日光（Sunlight）的4倍以上。如此高強(qiáng)度的光線能夠穿透微觀層面，使得通常肉眼難以察覺(jué)的微小瑕疵產(chǎn)生明顯的光影變化，從而被觀察到。

宏觀觀察（Macro-observation）：

它屬于宏觀觀察照明設(shè)備，主要用于晶圓加工過(guò)程中的最終成品表面檢測(cè)。

具體檢測(cè)對(duì)象

在半導(dǎo)體晶圓和液晶基板的加工階段，該設(shè)備主要用于檢測(cè)以下類型的缺陷：

異物/外來(lái)物（Foreign matter）：附著在表面的灰塵或雜質(zhì)。
劃痕（Scratches）：表面的線性損傷。
拋光不均（Polishing irregularities）：表面處理不平整。
暈染/霧狀缺陷（Haze）：表面出現(xiàn)的模糊或散射現(xiàn)象。
滑移線（Slips）：晶體結(jié)構(gòu)中的滑移痕跡。

技術(shù)規(guī)格與應(yīng)用

特性維度	詳細(xì)說(shuō)明
光斑直徑	根據(jù)型號(hào)不同（YP-150I / YP-250I / YP-250IL），照射直徑分為 30mmφ 或 40mmφ。
照射距離	有效工作距離為 140mm 或 220mm（取決于型號(hào)）。
光源類型	提供鹵素?zé)?/span>（高亮度，色溫約3400K）和 LED（壽命長(zhǎng)達(dá)10,000小時(shí)）兩種選擇。
應(yīng)用場(chǎng)景	直接應(yīng)用于 Wafer and glass substrate inspection（晶圓和玻璃基板檢測(cè)）。

總結(jié)

簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，這款設(shè)備就像一個(gè)超級(jí)聚光燈。在檢測(cè)時(shí)，它將非常強(qiáng)的光線聚焦在晶圓表面（30mm或40mm范圍），利用光的反射、折射和散射原理，將微米甚至納米級(jí)的缺陷放大成肉眼或傳感器可見(jiàn)的明暗對(duì)比，從而幫助操作人員或自動(dòng)化系統(tǒng)識(shí)別出異物、劃痕等問(wèn)題。

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日本YAMADA KOGAKU（山田光學(xué)）高亮度的定向光源怎么檢測(cè)半導(dǎo)體晶圓？

核心檢測(cè)原理

具體檢測(cè)對(duì)象

技術(shù)規(guī)格與應(yīng)用

總結(jié)

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