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晶圓與光罩清洗遇瓶頸?SONOSYS 兆聲技術(shù)實(shí)現(xiàn)“無損去污”與“高效剝離”

更新時(shí)間:2026-08-27      瀏覽次數(shù):50
在半導(dǎo)體制造步入 7nm 乃至更先進(jìn)制程的今天,芯片表面的微觀結(jié)構(gòu)變得之前所沒有的復(fù)雜與脆弱。一粒微小的納米級(jí)顆粒,或是一次不當(dāng)?shù)那逑礇_擊,都可能導(dǎo)致價(jià)值數(shù)萬元的晶圓報(bào)廢。面對(duì)這一挑戰(zhàn),傳統(tǒng)的超聲波清洗已逼近物理極限。作為兆聲清洗領(lǐng)域的隱形冠的軍的,SONOSYS 憑借 25 年的技術(shù)積淀,正以卓的越的兆聲解決方案,為晶圓清洗、光罩清洗及光刻膠剝離工藝保駕護(hù)航。

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一、 晶圓清洗:在“強(qiáng)力去污"與“零損傷"間尋找完的美平衡

在先進(jìn)制程中,晶圓表面布滿了極其脆弱的微觀結(jié)構(gòu)。傳統(tǒng)超聲波清洗依靠劇烈的氣泡爆破(強(qiáng)瞬態(tài)空化)來去除污垢,這種“微型炸的彈的"極易導(dǎo)致精細(xì)圖形結(jié)構(gòu)的倒塌或薄膜剝離。
SONOSYS 的兆聲清洗技術(shù)徹的底的改變了這一范式。通過輸出 1 MHz 甚至高達(dá) 5 MHz 的高頻聲波,SONOSYS 系統(tǒng)以溫和而持續(xù)的“聲流效應(yīng)"和“微空化效應(yīng)"為主。這就像是用無數(shù)把納米級(jí)的“軟毛刷"和“微射流",精準(zhǔn)剝離附著在晶圓表面的亞微米級(jí)顆粒,同時(shí)確保底層脆弱的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)毫發(fā)無損。無論是前道制程的顆粒去除,還是后道 CMP 后的拋光液清洗,SONOSYS 都能提供高度均勻、無盲區(qū)的極的致的潔凈。


二、 光罩清洗:守護(hù)光刻精度的“最后一道防線"

光罩(Photomask)是芯片制造的“底片",其表面的任何微小瑕疵都會(huì)被直接投影到晶圓上。特別是對(duì)于極紫外(EUV)光罩,其清潔度要求達(dá)到了苛刻的原子級(jí)。
SONOSYS 針對(duì)光罩清洗提供了高度定制化的兆聲解決方案。無論是帶圖案的掩模版,還是帶有保護(hù)膜的掩模版,SONOSYS 的兆聲噴嘴或浸沒式換能器都能在不損傷掩模精細(xì)圖形和薄膜的前提下,實(shí)現(xiàn)接近 100% 的顆粒去除率。此外,系統(tǒng)還可用于清洗光罩背面的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記,大幅降低因污染導(dǎo)致的光罩重做率,為光刻精度提供堅(jiān)實(shí)保障。


三、 剝離輔助:讓光刻膠去除更高效、更溫和

在光刻工藝后,徹的底的去除殘留的光刻膠是保證良率的關(guān)鍵。對(duì)于高深寬比的三維結(jié)構(gòu),傳統(tǒng)的化學(xué)剝離往往難以滲透到結(jié)構(gòu)深處,且長時(shí)間浸泡化學(xué)藥液可能帶來腐蝕風(fēng)險(xiǎn)。
SONOSYS 的兆聲技術(shù)是剝離工藝的絕的佳的“催化劑"。通過將兆聲能量精準(zhǔn)注入剝離藥液中,兆聲波能夠顯著增強(qiáng)化學(xué)試劑的活性與滲透力,加速光刻膠的溶解與剝離。更重要的是,這種物理與化學(xué)的協(xié)同作用,允許使用更低濃度的化學(xué)品和更短的工藝時(shí)間,不僅大幅提升了剝離效率,還有效避免了因過度反應(yīng)導(dǎo)致的微結(jié)構(gòu)損傷。


四、 為什么選擇 SONOSYS?

從 400 kHz 到 5 MHz 的寬頻覆蓋,從單噴嘴、雙噴嘴到定制化的換能器陣列,SONOSYS 提供的不只是一臺(tái)設(shè)備,而是針對(duì)微觀結(jié)構(gòu)清洗的完整解決方案。
  • 極的致的均勻 專的利的聲場(chǎng)設(shè)計(jì)確保晶圓/光罩表面能量分布高度一致,消除清洗盲區(qū)。

  • 無損工藝 專為精密微結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的溫和清洗機(jī)制,完的美的適配 MEMS、LIGA 及先進(jìn)半導(dǎo)體制程。

  • 高度可靠 25 年行業(yè)經(jīng)驗(yàn),全球超過 4500 套系統(tǒng)的成功交付,是技術(shù)實(shí)力的最好證明。








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